簡(jiǎn)要描述:高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MGD20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測(cè)試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃, 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
品牌 | 吉米諾 | 產(chǎn)地 | 國(guó)產(chǎn) |
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溫度范圍 | (-20℃~180℃)℃ | 工作室尺寸 | 475x675x875mm |
溫度波動(dòng)度 | 0.1~0.2℃ | 控溫方式 | PID自整定 |
供貨周期 | ≥7天 |
高低溫恒溫循環(huán)槽(-20℃~180℃),MG20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃,低溫-20℃恒溫測(cè)試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場(chǎng)源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個(gè)量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃, 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
產(chǎn)品特點(diǎn)
> PID精密恒溫控制系統(tǒng),精密恒溫控制系統(tǒng),恒溫波動(dòng)度±0.1℃,適用于高至195℃,低-20℃的化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制等;
> 單點(diǎn)溫度校準(zhǔn)和電位器校正,溫度數(shù)據(jù)更可靠;
> 壓縮機(jī),噪音低,制冷效率高;
> 制冷相關(guān)配件采用進(jìn)口品牌,性能穩(wěn)定且壽命長(zhǎng);
> 制冷系統(tǒng)具備高壓保護(hù)器,確保制冷系統(tǒng)安全;
> 全封閉高低溫磁力泵循環(huán)攪拌,溫場(chǎng)均勻,免除泄露和異常噪音;
> 具備傳感器開路、短路保護(hù)、ADC初始化檢測(cè)等,安全防護(hù)更全面;
可選附件
> 可選配RS485通訊接口;
> 可選配嵌入式不銹鋼蓋,用于更緊湊的空間需求;
> 可選配SUS304液槽隔板,用于浸入式實(shí)驗(yàn)需求;
安全保護(hù)裝置
> 具有斷電記憶功能;
> 溫度上下限制保護(hù)和報(bào)警功能;
> 三重溫度保護(hù),高低溫限制保護(hù),加熱限制保護(hù);
應(yīng)用范圍
石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制,半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制,對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。
高低溫恒溫循環(huán)槽技術(shù)參數(shù)
型號(hào) | MGD20-20 |
控溫范圍 | -20℃~180℃(高至溫度195℃) |
溫度波動(dòng)度 | 0.1℃~0.2℃ |
顯示精度 | 0. 1℃ |
容積 | 20L |
液槽尺寸 | Φ300x300mm |
開口尺寸 | Φ280mm |
溫度控制 | PID程序 |
制冷形式 | 單級(jí)壓縮 |
循環(huán)泵流量 | 大 20L/min |
循環(huán)泵壓力 | 大 2.0bar |
加熱功率 | 2500W |
制冷功率@20℃ | 1800W |
安全性能 | 數(shù)顯溫度校準(zhǔn),傳感器開路、短路保護(hù)和報(bào)警,雙重溫度保護(hù),高低溫保護(hù),防干燒功能 |
備注:加熱制冷循環(huán)器所有技術(shù)參數(shù)均為標(biāo)準(zhǔn)配置參數(shù),涉及溫度波動(dòng)度、壓力、流量、制冷功率、加熱功率等詳細(xì)技術(shù)參數(shù)也可以向相應(yīng)銷售索?。蝗艨蛻魧?duì)設(shè)備壓力、流量、外循環(huán)等特別要求或高精度恒溫控制,我公司可以根據(jù)實(shí)際的需求做非標(biāo)定制化處理。
更多關(guān)于加熱制冷循環(huán)器/加熱制冷循環(huán)槽的設(shè)備信息,可以訪問吉米諾網(wǎng)站.
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